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真空镀膜设备有哪些基本技术要求?


发布时间:2019-05-31 15:45:25

真(zhen)空镀膜(mo)设备有(you)哪些基本技术要(yao)求呢?电玩城镀膜(mo)来告(gao)诉您。

真空镀膜

1、设备中的(de)(de)真(zhen)空(kong)管道、静态(tai)密封零部件(法兰、密封圈等)的(de)(de)结构形(xing)式,应符合GB/T6070的(de)(de)规定。

2、在低真(zhen)空(kong)(kong)和高真(zhen)空(kong)(kong)管(guan)道(dao)上及真(zhen)空(kong)(kong)镀膜室(shi)上应安装真(zhen)空(kong)(kong)测(ce)(ce)量规(gui)管(guan),分别测(ce)(ce)量各部位的真(zhen)空(kong)(kong)度。当发现电场(chang)对测(ce)(ce)量造成干扰时,应在测(ce)(ce)量口处安装电场(chang)屏蔽装置。

3、如(ru)果(guo)设(she)备使用的主泵为扩散泵时(shi),应在泵的进(jin)气口一(yi)侧装设(she)有(you)油(you)蒸(zheng)捕集(ji)阱

4、设备(bei)的(de)镀(du)膜室应设有观察窗(chuang),应设有挡板装置(zhi)。观察窗(chuang)应能(neng)观察到沉积源的(de)工作情况以及其(qi)他关(guan)键部位。

5、离(li)子镀(du)沉(chen)积源的(de)设计应尽可能(neng)提高(gao)镀(du)膜过程(cheng)中的(de)离(li)化率,提高(gao)镀(du)膜材料的(de)利用率,合(he)理(li)匹(pi)配沉(chen)积源的(de)功率,合(he)理(li)布置沉(chen)积源在(zai)真(zhen)空室体的(de)位(wei)置。

6、合理布置(zhi)加热(re)装置(zhi),一般加热(re)器结构(gou)布局应使被镀工件(jian)温升均匀一致。

7、工件架(jia)应与(yu)真空室体(ti)绝缘,工件架(jia)的设计应使工件膜层均匀。

8、离子镀膜(mo)设备一般应具有工件(jian)负偏(pian)压和离子轰(hong)击电(dian)源,离子轰(hong)击电(dian)源应具有抑制非正常(chang)放电(dian)装(zhuang)置(zhi),维(wei)持(chi)工作稳定。

9、真空室接不同(tong)电(dian)位的(de)各部分间的(de)绝缘电(dian)阻(zu)值的(de)大小,均按GB/T11164-1999中的(de)4.4.6

10、其他注意事项

1)环境(jing)温(wen)度:10-30oC

2)相对湿度:不大于75%

3)冷(leng)却水(shui)进水(shui)温度:不高于25oC

4)冷(leng)却(que)水质(zhi)(zhi):城市自来(lai)水或相当质(zhi)(zhi)量的水。

5)供电(dian)电(dian)源:380V三相(xiang)50Hz或(huo)(huo)220V单相(xiang)50Hz(由所用电(dian)器需要而定(ding));电(dian)压波动范围(wei):342-399V或(huo)(huo)198-231V;频(pin)率波动范围(wei):49-51Hz。

6)设(she)备所需的压缩(suo)空气,液(ye)氮(dan),冷水、热水等的压力、温(wen)度(du),消耗量等,均(jun)应在产品(pin)使(shi)用说明(ming)书中写(xie)明(ming)。

7)设备周围环境整洁(jie),空(kong)气(qi)(qi)清洁(jie),不应(ying)有引起(qi)电器及其(qi)他金属件表(biao)面腐蚀或引起(qi)金属间导(dao)电的尘埃或气(qi)(qi)体存在。

电玩城纳米科(ke)技(ji)(深圳(zhen))有限公司是(shi)一家专业从事以真空镀膜加工(gong)(gong)、离子镀膜加工(gong)(gong)服(fu)务为主的(de)港资企业。

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