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真空镀膜

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真空镀膜厂加工的物理过程和工艺流程


发布时间:2019-05-20 14:42:24
真空镀膜的物理过程
PVD(物理气相沉(chen)积技(ji)术)的(de)基本(ben)原(yuan)理可(ke)分(fen)为三个工艺步(bu)骤:
(1)    镀料(liao)的气(qi)化:即(ji)镀料(liao)的蒸发、升华或被溅射从而(er)形成气(qi)化源
(2)   镀料(liao)粒子(zi)((原子(zi)、分子(zi)或离(li)子(zi))的迁移:由气化(hua)源(yuan)供出原子(zi)、分子(zi)或离(li)子(zi)经过碰撞(zhuang),产生多种反应。

(3)   镀料粒子(zi)在基片表面的沉积

真空镀膜

薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)形(xing)(xing)(xing)成(cheng)顺(shun)序为:具有(you)一(yi)定能(neng)量的(de)原(yuan)子被吸附→形(xing)(xing)(xing)成(cheng)小原(yuan)子团(tuan)→临(lin)(lin)界核→小岛(dao)→大岛(dao)→岛(dao)结合→沟道薄(bo)膜(mo)(mo)→连续薄(bo)膜(mo)(mo)。因此薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)形(xing)(xing)(xing)成(cheng)过(guo)程可分(fen)为四个阶段;临(lin)(lin)界核的(de)形(xing)(xing)(xing)成(cheng);岛(dao)的(de)形(xing)(xing)(xing)成(cheng)、长大与结合;沟道薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)形(xing)(xing)(xing)成(cheng)和连续膜(mo)(mo)的(de)形(xing)(xing)(xing)成(cheng)。
真空镀膜(mo)的工艺流程(cheng)
真空(kong)镀膜的(de)工艺流程一(yi)般依(yi)次为:前处(chu)(chu)理及(ji)化学清洗(表面打磨(mo)抛光(guang)喷砂,除(chu)锈(xiu)除(chu)油去(qu)氧化层)→工件(jian)在真(zhen)空(kong)中烘烤(kao)加热→氩离子辉光(guang)清洗→金属离子轰击→镀(du)金属过(guo)渡层→镀(du)膜(通入反应气体)→后处(chu)(chu)理(炉(lu)内钝化或(huo)出炉(lu)后钝化去(qu)应力或(huo)防(fang)止变色,过(guo)UV做防(fang)指(zhi)膜处(chu)(chu)理等)。
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